在10nm工藝中，漆層附著力報告利用CO-H2成功形成了邊際尺寸差小于1nm、直徑15nm的光刻等離子蝕刻接觸孔。隨著我們越來越接近硅半導體的瓶頸，新材料不斷涌現，零件數量不斷增加，我們正在接近量產。這些即將出現在半導體集成電路中的新材料極難蝕刻。這樣的材料通常具有更好的導電性和化學活性，并且傾向于被化學蝕刻更多一點。一個常見的要求是定義準確的圖形并最大限度地減少對關鍵層和接觸層的損壞。

由于在電離過程中陽離子和電子總是成對出現，彈體漆層附著力試驗報告因此等離子體中的陽離子和電子總數大致相等，整體呈準電中性。相反，等離子體可以定義為其中正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。從剛才提到的微弱燭火中，可以看出等離子的存在，夜空中的繁星上，到處都是熾熱的、完全電離的等離子。根據印度天體物理學家沙哈（M. SAHA，1893-1956）的計算，宇宙中99.9%的物質處于等離子體狀態。我們生活的地球是較冷行星的一個例外。

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等離子清洗機的應用，起源于20世紀初，隨著高科技產業的快速發展，其應用越來越廣，目前已在眾多高科技領域中，居于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產業經濟和人類文明影響最大，首推電子資訊工業，尤其是半導體業與光電工業。  等離子清洗機已應用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機及其清洗技術，就沒有今日這么發達的電子、資訊和通訊產業。

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