等離子體表面處理體是一種物質存在狀態，親水性物質結構特征通常物質以固體、液體、氣體三種狀態存在，但在某些特殊情況下有四種狀態存在，如地球大氣中的電離層中的物質。下列物質以等離子體狀態存在:高速運動的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、自由基;電離的原子和分子;未反應的分子、原子等，但物質整體上保持電中性。在真空室中，射頻電源在一定壓力下產生高能無序等離子體，通過等離子轟擊清洗產品表面。達到清洗的目的。

plasma是物質的一種存在狀態，親水性物質結構特征也稱為第四狀態(通常物質是固體、液體、氣態三種狀態)，是利用高壓電源在一定壓力情況下對氣體增加足以能量而產生的。清潔狀態中有下列物質：處于高速運動狀態的電子、處于活躍狀態的中性原子、分子、原子團(自由基)、離子化原子、分子、未反應分子、原子等，但物質總體上仍然保持電中性。

等離子體中存在下列物質，親水性物質結構特征并產生電子、中性原子、處于快動過渡態的分子、處于激發態的原子團（自由基）以及在解離反應過程中電離的原子、分子和分子。越來越多的紫外線、未反應的分子、原子等，但材料保持完全電中性。 2.等離子類型低溫等離子和高溫等離子根據等離子體的溫度，可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種。在等離子體中，粒子的溫度實際上是不同的。比溫度與粒子的動能，即它們的運動速度和質量有關。

低溫等離子體技術可以產生空氣中的負離子：在低溫等離子體中，親水性物質結構特征高能電子可使氣體分子如氧氮等帶電子，從而產生空氣負離子，這種負離子有“空氣維生素”、“長壽素”之稱，具有很好的健康效果，對人體和其它生物的生命活動有很大影響。低溫等離子體技術可以實現生物消殺的目的：低溫等離子體具有明顯的生物消殺作用。這種特征在疫情爆發時也得到證實和應用。

親水性物質結構特征

等離子清洗工藝的選擇取決于后繼工藝對材料表面的要求、材料表面的原有特征、化學組成以及表面污染物性質等等。通常應用于等離子表面改性的氣體有氬氣、氧氣、氫氣、氮氣、四氟化碳及其混合氣體等等其主要應用及選擇見表1。

表面活化、接枝聚合等材料表面相互作用改變了材料表面的形態特征和化學成分。等離子體是一個電中性基團，但它包含許多活性粒子，例如電子、離子、激發的分子原子、自由基和光子。它們的能量范圍是1-10 eV，這樣的能級就是能量范圍。由于纖維材料中有機分子結合能的變化，等離子體中的活性粒子與纖維材料表面發生解吸、濺射、激發和刻蝕等物理化學作用，以及交叉反應等化學反應。

等離子體是由正負粒子帶正電荷(包括正離子、負離子、電子、自由基和各種活躍的群體,等等),等于正負電荷的指控稱為等離子體,是除固態、液態和氣態物質在第四狀態——等離子體狀態存在。

活性等離子對被清洗物進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質，經過抽真空排出，從而達到清洗目的，實現分子水平的污染物去除（一般厚度為3～30nm），從而提高工件表面活性。被消除的污染物可能為有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應不同的污染物，應采用不同的清洗工藝，根據選擇的工藝氣體不同，等離子清洗分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。

下列物質 是親水性物質

由于低溫等離子處理設備和催化劑的共同作用，下列物質 是親水性物質CH4和二氧化碳的復合現象：在低溫等離子處理設備的影響下二氧化碳氧化成CH4的轉化主要是由自由基引起的，目標物質C2烴選擇性低。化學催化下的二氧化碳氧化CH4轉化現象對目標物質具有較高的選擇性。例如，負載型鎳催化劑提供的目標物質為合成氣(CO+H2)，以鑭系氧化物為催化劑的目標物質為C2烴。