在真空等離子設備的清洗過程中，真空活化機除了形成低溫等離子體的化學變化外，低溫等離子體還與原料表面形成物理反應。低溫等離子體粒子可以將原料表面或原料附著表面的原子敲掉，有利于清洗蝕刻反應。

它們也可以被原子結構的力學所操縱表面基板的損壞。這些表面基團后來可能參與表面反應和成鍵。真空等離子體處理是一種低溫工藝，真空活化機作用一般為40~120C，可以避免熱損傷。這個過程產生一個熱自由表面激活反應，它不會在大氣壓力下發生，這取決于分子的化學成分。這些獨特的特性可以為材料和產品開辟新的可能性。等離子體處理是在一個受控的環境中，在一個密封的腔室中進行，引入選定的氣體，以保持腔室處于中等真空，通常為13至65Nm2。

研究了氧等離子體和空氣等離子體(頻率13.56mhz，真空活化機作用真空度1TORr，充放電輸出功率100 W)處理棉織物芯吸收性能與工藝標準的關系。對棉織物進行大氣等離子清洗60秒，氧等離子處理30秒。棉織物的脫蠟、脫漿效果(果)達到了正常沸騰漂白的程度。

其基本原理是在真空低壓下，真空活化機ICP射頻電源向環形耦合線圈產生有一定份額的射頻輸出通過耦合輝光放電腐蝕氣體混合,高密度等離子體,我電極射頻等離子體的作用下在襯底表面進行炮擊,襯底圖形區域半導體材料的化學鍵被中斷,和蝕刻氣體生成的揮發性物質,以氣體的形式從襯底,遠離真空管。蝕刻機與光刻機的區別蝕刻比光刻容易。光刻機打印圖片，蝕刻機從打印的圖片上切下有(或沒有)圖片的部分，剩下的部分留下。。

真空活化機

現在的等離子清洗機主要有自動控制、半自動控制、PC控制、LCD觸摸屏控制四個控制單元，控制單元主要由電源、控制系統、控制按鈕和操作顯示組成。真空室。真空室用于清洗目標空間，主要有石英室和不銹鋼真空室。由于采用真空滅菌和等離子體清洗的方法，對腔體的壓力有一定的要求，因此需要選擇更好的腔體材料進行配置。真空泵。等離子清洗機的主要動力源是真空泵，其主要作用是將真空室中的空氣抽干，進入真空環境，然后進行等離子清洗。

以氬氣等離子體為例在這個過程中。其中，氫子產生的離子有足夠的能量輻射。注塑表面，清除表面污垢。將接收帶正電的氬等離子體。吸入室的負極板。高能等離子體碰撞。沖擊力足以清除表面上的任何污垢，然后再次清除。污物通過真空泵以氣體的形式排出。實際上，整個等離子體過程中合理的效率因素包括工藝溫度、氣體分布和真空度、電極設置、靜電保護等。藝術的特點是能夠處理任何材料。

兩者的目的都是制造具有或同時具有多重表面特性的材料。因此，開發了許多可用的表面處理技術。如化學濕法、電子束或紫外線干法、表面活性劑添加劑、真空蒸發金屬化等。而目前采用的是等離子體表面處理設備的干式處理技術。它不僅可以改變表面結構，控制界面的物理性能，還可以根據需要涂膜。在塑料、天然纖維和功能高分子薄膜等領域具有廣闊的應用前景。

等離子體清洗,蝕刻生產等離子機是在密閉容器中設置兩個電極形成電磁場,利用真空泵達到一定程度的真空,氣體越來越薄,白色,分子和分子或離子運動距離之間的距離也越來越長,磁場效應，碰撞和等離子體的形成，輝光會同時發生。等離子體在電磁場中運動，轟擊被處理物體的表面，從而達到表面處理、清洗和蝕刻的效果。與傳統的使用有機溶劑的濕式清洗相比，等離子機具有以下9個優點:1。

真空活化機硅膠膜

當等離子體清掃艙體內接近真空狀態時，真空活化機作用打開射頻電源，這時氣體電離，離子注入，并伴隨輝光放電現象，離子注入在電場加速作用下，它在電場作用下高速運動，與物體表面發生物理碰撞，等離子體的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣帶出客艙。等離子清洗機是一種高效的工作方式，也是對環保號召的響應。