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平板顯示器除膠

此外,平板顯示器除膠機器納米材料、光學電子、平板顯示器、航空航天、科學研究和一般工業。必要性。本文網址:/newsdetail-14142425.html。: 1.徹底徹底去除表面的有機污染物。 2.清洗速度快,操作簡單,使用和維護成本極低。 3.它是非破壞性的,不會損壞被清潔物體的表面光潔度。四。無環保、無化學溶劑、無二次污染。五。在常溫下清洗時,被清洗物的溫度會發生細微的變化。 6.您可以清潔各種幾何形狀和粗糙度的表面。

低速無紙化關機,平板顯示器除膠實現自動速度和等離子功率匹配。通過對物體表面施加等離子沖擊,可以達到對物體表面進行蝕刻、活化(化學)和清潔的目的。等離子表面處理系統可以顯著提高這些表面的附著力和強度,目前用于清潔和蝕刻 LCD、LED、IC、PCB、SMT、BGA、引線框架和平板顯示器。等離子清洗過的 IC 可以顯著提高鍵合線的強度并降低電路故障的可能性。

真空等離子清洗機的技術參數為:你可以看到:系統標準配件設備尺寸1105W*14880D*1842Hmm(信號燈高度2158mm)水平板8層電極板403W * 450Dmm氣體流量控制器,平板顯示器除膠2 路工藝氣體0-300毫升/分鐘真空測量日本ulvav真空計人機界面觸摸屏自主研發電極距離48mm信號指示燈3 色帶報警真空泵90m3/h雙極油泵系統電氣和機械電源:AC380V,50 / 60Hz額定功率 5000W系統重量(設備主機/真空泵) <600公斤表面積:設備主機1805 (W) x1988 (D) x1842 (H) 毫米射頻電源射頻電源頻率13.56MHZ射頻電源 電源0W射頻功率匹配器自動匹配,先進的空氣冷凝器技術設備先決條件電源:AC380V,50 / 60Hz,三相無線7.5KVA壓縮空氣要求CDA 60-90psig 無水無油排氣系統≥2立方/分鐘,可采用中央廢氣處理管道系統環境要求<30°(最佳室溫)工藝氣體要求15-20paog 99.996% 或更高純度本文內容如下:。

平板顯示器除膠設備

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引入等離子清洗設備進行表面處理后,可以通過形成清潔表面和粗糙化基材表面來提高親水性并減少銀膠的使用。等離子等離子清洗機等離子撞擊物體表面,可以達到蝕刻、活化、清洗物體表面的目的。可以大大提高材料表面的粘度和焊接強度。等離子清潔劑目前用于清潔和蝕刻 LCD、LED、PCB、BGA、引線框架和平板顯示器。等離子清潔劑可以快速去除材料表面的污染物,無論表面是金屬、陶瓷、聚合物、塑料還是其他材料。

光學:平板顯示器。 ---- 宇普來等離子科技專業從事等離子研發!等離子表面處理機。提高熔噴無紡布過濾效率的有效方法:靜電駐極裝置、靜電發生器 靜電發生器應用:靜電吸附、靜電駐極處理裝置靜電吸附是指過濾材料的纖維帶電。 , 利用電纖維(駐極體)的庫侖力來捕捉粒子。當灰塵、病毒、病毒等粒子通過過濾材料時,靜電力不僅有效地吸引帶電粒子,還捕捉到由靜電感應效應引起的極化中性粒子。

對于FPC,在壓制、絲印等高污染工藝后殘留的粘合劑會導致后續表面處理過程中出現漏鍍、變色等問題。殘留的粘合劑可以使用等離子去除。 d。清洗功能:電路板前用等離子清洗表面。增加線的強度和張力。 6.磁盤空間一種。清洗:清洗光盤模板;灣。鈍化:模板鈍化; C。改進:去除(去除)復印件上的污漬。其次,等離子技術還可以用于半導體行業、太陽能、半導體行業的平板顯示應用。一種。硅晶圓,晶圓制造:照片去除;灣。

等離子表面處理系統目前用于清潔和蝕刻 LCD、LED、IC、PCB、SMT、BGA、引線框架和平板顯示器。 Plasma Etcher ICs可以顯著提高耦合強度并降低電路故障的可能性。殘留的光刻膠、樹脂、溶液殘留物和其他有機污染物暴露在等離子體區域,可以在短時間內去除。 PCB 制造商使用等離子蝕刻系統對鉆孔中的絕緣層進行去污和蝕刻。很多產品,都在行業中使用。

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本產品連續作業效率高,平板顯示器除膠加工速度快,粘接可靠,成本低; 6.等離子功率、處理距離和清洗速度可調。。等離子設備領域的人都知道,等離子設備廣泛應用于半導體、生物、醫藥、光學、平板顯示器等行業。它使用一些活性成分來處理樣品的表面。清潔,修改和其他功能。真空等離子設備在半導體行業的應用有一定的基礎。由于在工藝過程中填充過程中存在氧化、潮濕等一系列問題,LED行業的人們考慮使用真空等離子器具。