等離子的形式。清潔設備，熱鍍鋅后噴涂附著力完成與客戶生產線的上下游連接，減少人員參與，完成高度自動化的生產線。。等離子清潔劑等離子是由分子、原子和電離后產生的正負電子組成的氣態物質，是物質存在中除固、液、氣三種狀態外的第四種. 它是一種狀態。等離子體分為高溫等離子體和低溫等離子體。熱等離子體僅在溫度足夠高時才會出現。太陽和恒星不斷地發射這種等離子體。它的粒子溫度可以達到數千萬攝氏度甚至數億攝氏度，并且可以以可控的方式使用。

如恒星星系、星云、地球附近的閃電、極光、電離層等。人工等離子體，熱鍍鋅后噴涂附著力差如熒光燈、霓虹燈中的放電等離子體，等離子炬中的電弧放電等離子體，氣體激光器中的電離氣體以及各種氣體放電。按電離程度可分為完全電離等離子體(α=1)和強電離等離子體(1>α>0.01)和弱電離等離子體(αTi&ASYMP；=Tg，從而形成熱力學非平衡態。

但是能量過大容易導致材料表面損傷，熱鍍鋅后噴涂附著力能量過小則清洗效果不明顯。工藝氣體種類：不同的工藝氣體種類所激發的微波等離子的性能是不同的，需要根據被清洗材料選擇不同的工藝氣體。

目前廣泛應用的工藝主要是等離子體加工工藝，熱鍍鋅后噴涂附著力差等離子體加工工藝簡單、環保、清洗效果顯著，對于孔槽結構非常合理。等離子體處理器是指高度活化的等離子體在電場作用下定向運動，氣固兩相流與井壁污垢發生化學反應，局部未反應的氣體產物和顆粒通過抽泵排出。

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等離子體中存在以下物質：快速運動的電子、中性原子、分子、激發自由基（自由基）、電離原子、分子、分子解離反應產生的紫外線、未反應的分子、原子等。然而，這個問題作為一個整體仍然是電中性的。等離子體清潔機制主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來達到去除物體表面污垢的目的。從力學的角度來看，等離子清洗一般包括以下過程：將無機氣體激發成等離子態；將氣相材料吸附到固體表面；吸附劑與固體表面分子反應生成產物分子。

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