因此，天津真空式等離子處理機定制放置在電子路徑中的矩陣在等待陽離子到達時帶負電。帶負電荷的表面的靜電吸引力加速了陽離子朝向表面。碰撞允許這些離子從表面去除材料。氬氣適用于以這種方式使表面略微粗糙。可以通過設置等離子體的能量和壓力來控制加速離子的能量。例如，將壓力增加 1 毫托羅爾將顯著降低離子的碰撞能量（如果碰撞能量沒有完全去除）并消除表面等離子體粗糙化效應。

此時，天津真空式等離子處理機定制絕緣體的表面電位VF趨于穩(wěn)定，VF與等離子體電位的差(VP-VF)保持恒定。這時，在絕緣體表面附近有一層空間電荷層，這個空間電荷層就是離子鞘層。由于等離子體中的絕緣體常被稱為浮置基板，所以絕緣體的電位常被稱為浮置電位。顯然，雜散電位為負，在雜散襯底與等離子體的界面處形成了陽離子的空間電荷層。因此，所有絕緣體，包括放置在等離子體中的反應器壁，都會形成離子鞘（見圖 1-3）。

例如，天津真空式等離子處理機定制有（有機）污垢可以通過氧等離子處理器去除，氧等離子與污垢反應生成 C。O2、CO 和水。在大多數情況下，化學反應擅長去除（有機）污漬。 3) H2：氫氣可用于去除金屬表面處理中的氧化物。通常與 AR 混合以加快移除速度。大多數人擔心氫氣的可燃性，氫氣的使用量非常低。人們更擔心儲氫。氫氣發(fā)生器可以從水中產生氫氣。它消除了潛在的危險。 4）CF4/SF6：含氟氣體廣泛用于半導體行業(yè)和基板（印刷電路板）行業(yè)。

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它為氣體增加了足夠的能量以將其電離成等離子體狀態(tài)。在我們的日常生活中，我們不僅要了解真空等離子清洗技術的優(yōu)點，還要了解它在使用中的缺點和問題。等離子清洗的應用也有一定的局限性，主要表現(xiàn)在以下幾個方面：我們還發(fā)現(xiàn)等離子體不能成功去除表面上的指紋，這是一種常見于玻璃光學元件中的污染物。等離子清洗不能完全去除指紋，但處理時間較長，因此需要考慮對基板的不利影響。

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