氬氦特性穩定，氬氣等離子體清洗放電電壓低（氬原子的電離能E為15.57EV），AR+易形成半穩態原子，撞擊污物，由泵排出. 真空泵，形成揮發性污漬，避免了表面材料的反應。另一方面，使用氬氣時，易形成半穩定原子，與氧或氫分子碰撞時，發生電荷轉換和再生。它結合形成氧氣。作用于物體表面的氫活性原子。

大型等離子電器的等離子有三種效果模式可供選擇。首先，氬氣等離子體清洗儀選擇以非金屬材料為主，處理效果要求高的氬/氧組合。其次，氬/氮組合主要用于待加工產品含有不可加工金屬的區域。在該方案中，氧氣的強氧化使得問題在交換氮氣后得到控制。第三，如果只用氬氣，也可以單獨用氬氣進行表面改性，但效果比較差。這是一種特殊情況，是一些工業用戶在需要同時進行均勻表面改性時使用的解決方案。。

等離子清洗過程中的常見問題-幫助中心 Q：您的等離子清洗機需要引入哪些特殊氣體？答：除壓縮空氣外，氬氣等離子體清洗在線處理過程不需要任何其他特殊氣體。但是，如果輝光放電裝置在大氣壓下，可以充入氬氣或氦氣等惰性氣體，在與空氣不同的氣氛中進行表面處理。問：等離子清洗機可以在線清洗嗎？生產線的速度是多少？答：等離子清洗機可以實現在線清洗。手機按鍵貼合、外殼涂層、吊頂植絨、吊頂噴膠等都已經成熟并應用于流水線生產。

將其置于真空室中（氧氣、氫氣、氬氣、氮氣等氣體因清洗劑而異），氬氣等離子體清洗壓力保持在 100 PA 左右，在它們之間施加高頻電壓。真空室中的電極和接地裝置分解氣體并使其通過輝光。光的放電使氣體電離并產生等離子體。在真空室內產生的等離子體完全覆蓋待清洗工件后，開始清洗操作，清洗過程持續幾十秒到幾分鐘。下面詳細介紹使用等離子清洗機時應注意的事項。 1、等離子清洗機啟動前，需要做好一切準備工作。

氬氣等離子體清洗

氬氣本身是一種惰性氣體，等離子氬不與表面相互作用，但它通過離子沖擊清潔表面。典型的等離子化學清洗技術是氧等離子清洗。等離子體中捕獲的氧自由基具有高活性，容易與碳氫化合物相互作用產生CO2、CO、H2O等揮發物，從而有效去除表面污染物。

氬和氦性質穩定，放電電壓低（氬原子的電離能E為15.57EV），易形成半穩定原子。當然，另一方面，等離子清潔器利用其高能粒子的物理作用來清潔容易氧化或還原的物體。 AR + 撞擊污垢形成揮發性污垢。它由真空泵排出，是表面材料的反應；另一方面，半穩定原子易于使用。氬氣形成并與氧分子和氫分子碰撞以轉換和鍵合電荷，形成作用于表面的氧和氫的活性原子。氫氣是一種不穩定的氣體，主要用于金屬表面氧化物的還原和清洗。

以消耗的主要氣體氬氣為例，與大氣壓等離子體相比，消耗量不到1/20。大氣等離子涂層 為減少有毒化學品的使用，金屬納米粒子，尤其是 AGNPS & LDQUO; Green & RDQUO; 合成，目前正受到特別關注。這些納米顆粒和銀離子需要直接與細菌細胞相互作用才能發揮其抗菌作用。因此，粒子和離子必須處于作用點，例如需要抗菌保護的醫療器械表面。

只要對三個功能的控制參數進行適當的調試，就可以充分利用三個控制規則的好處，非常好。最佳防治效果（效果）。主要流程如下。首先將待清洗的工件送入真空室進行固定，抽真空泵等設備抽真空至10帕左右的真空度，引入等離子清洗氣體。將其置于真空室中（所選擇的氣體，如氧氣、氫氣、氬氣、氮氣等，取決于清洗劑），壓力保持在100帕左右，在它們之間施加高頻電壓.真空室中的電極和接地裝置分解氣體并使其通過輝光。

氬氣等離子體清洗機器

那么為什么要使用氬氣等氣體，氬氣等離子體清洗機器等離子清洗機的其他主要功能是什么？氬氣是一種無色無味的惰性氣體，工業上主要用于金屬材料的弧焊和激光切割保護。等離子清洗使用氬氣來物理清洗和粗糙化基板表面。因此，氬等離子清洗機廣泛應用于半導體材料、微電子技術、晶圓制造等制造行業。真空等離子清潔器的氬離子發出的光是深紅色的。在相同的充放電自然環境下，氫氣和氮氣產生的等離子體呈鮮紅色，但氬氣的色度低于氮氣，高于氫氣。