下列物質以等離子體狀態存在:高速運動的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、自由基;電離的原子和分子;未反應的分子、原子等，電感耦合等離子體質譜儀中標公告但物質整體上保持電中性。在真空室中，射頻電源在一定壓力下產生高能無序等離子體，通過等離子轟擊清洗產品表面。達到清洗的目的。一般來說，清洗/蝕刻意味著去除干擾材料。

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真空等離子清洗的優點:作為一種重要的材料表面改性方法,等離子清洗已廣泛應用于許多fields.1)處理溫度低,加工溫度低至80℃、50℃以下,以確保沒有熱影響示例surface.2)因為它是在真空中進行,不污染環境，等離子體受電場影響保證清洗表面不受二次污染，整個過程無污染。

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這些活性基團與血漿中的活性粒子發生反應，形成新的活性基團。然而，具有活性基團的材料會受到氧的作用或分子鏈段的運動影響，使表面活性基團消失，所以經等離子體處理的材料表面活性具有一定的時效性。在等離子體表面改性材料中，由于等離子體中的活性粒子對表面分子的作用，使表面分子鏈斷裂，產生新的自由基、雙鍵等活性基團，然后發生表面交聯和接枝反應。表面聚合會在材料表面聚合，產生一層沉淀，有利于提高材料表面的粘結能力。

常壓大氣等離子噴涂技術可控涂層技術的難點在于過程中需要控制的因素很多，而且它們往往相互影響。熔點高、速度快、物理化學態分布廣的特點對實時觀測和過程控制提出了挑戰。在大氣等離子噴涂過程中，單分子層的形成主要受液滴冷卻能力的控制。液滴迅速冷卻時，液體化學物質的流動性迅速下降，并傾向于產生盤狀單層。相反，這種“噼噼啪啪”的趨勢很強勁。

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