等離子清洗機的電源可以按頻率分為中頻電源、射頻電源和微波電源，在等離子處理中各自具有獨特的特點。
1、中頻等離子清洗機： 由于中頻電源直接輸出到電極板的電壓較高，其自偏壓也較高，產(chǎn)生的負(fù)自偏壓就會引起正離子的功率吸收，從而直接引起電極板的溫度升高。同時由于在這個過程中離子會吸收部分的功率，因此用于電離的電子的功率吸收就相應(yīng)地減少了，從而造成等離子體密度較低，與離子能量較高的現(xiàn)象，這樣一來在處理過程中，工藝處理過程中的溫度也會升高。 2、射頻等離子清洗機： 射頻等離子清洗機與中頻等離子清洗機不同的是，在射頻容性耦合方式的放電過程中，電極板產(chǎn)生的自偏壓受到放電氣壓的影響，但其中自偏壓較小，電子的功率吸收主要來自于與電極板表面的震蕩鞘層相互作用。因此，射頻等離子清洗機的激發(fā)頻率越高，電子的功率相對的也會越高，相應(yīng)的離子轟擊的能量就會降低，所以在工藝處理過程中的溫度就會相對中頻等離子清洗機較低。 3、微波等離子清洗機 而微波等離子清洗機的放電過程中，在這樣的清洗方式下沒有自偏壓，離子濃度高，離子能量低。主要有著兩種方式，即表面波型和電子回旋共振型，前者一般用于商業(yè)清洗，是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實現(xiàn)放電，其中并沒有離子的加速作用，其電子密度較高，但通常要去放電氣壓高，從而會引起等離子體局域化比較嚴(yán)重的情況，不利于縱深清洗方式和多層面的大尺度的清洗處理。此外，微波等離子清洗機也不適合對一些精密的電子元器件進行處理。 自偏壓指的是當(dāng)腔體電極接上RF功率時，由于電子和離子的運動，會在電極附近形成帶負(fù)電的鞘層電壓。這是因為電子的質(zhì)量遠(yuǎn)小于離子，因此到達(dá)電極的電子數(shù)量多于離子，導(dǎo)致電極附近形成自偏壓。