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(d)原料表面層的功能僅涉及納米級的處理，電芯plasma清洗設備(e)處理溫度低，對原料表面無損傷，常用樣品處理后能長時間保持良好效果。根據客戶需求配置管道生產計劃(3)產品結構等離子體設備主要由高壓勵磁主機電源、等離子體發生器噴嘴和自動控制系統組成。A、等離子設備高壓激勵主機電源:等離子的產生必須采用高壓激勵，常壓等離子設備采用中頻電源激勵，頻率為10-40khz。高電壓4-10kV，可根據樣品實際情況調整參數達到效果。

壓合速度:快160mm/s，電芯plasma清洗設備檢測速度:0.1-10mm/s，壓合速度:0.1-5mm/s6。設備最大開啟高度:根據產品特點定制。壓頭與下工作面的相對平行度:≤0.02mm/ mm8。壓頭移動時相對于下工作面的垂直精度:0.02 mm/mm以內9。壓力安裝可調行程:0-200mm，可控，重復精度:±0.01mm10。壓力顯示值與實際壓力誤差:1%。

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電芯plasma清洗設備

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較小的電極間距可以將等離子體限制在狹窄的區域內，從而獲得更高的等離子體密度，實現更快的清洗速度。隨著清洗速度的增大，間距逐漸減小，均勻性卻逐漸增大，電極的尺寸通常決定了等離子體系統的整體容量，等離子體清洗系統中電極平行分布，電極通常用作托盤，較大尺寸的電極可以清洗更多的元件，提高設備效率。

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10、應用范圍廣，凈化功率高，特別適用于其他方式處理多組分惡臭氣體，如化工、制藥等行業。此外，低溫等離子體廢氣處理設備占地面積小;電子能量高，可以簡單地與所有惡臭氣體分子相互作用;運行成本低;響應快，停止很快，隨用隨開。

電芯plasma清潔設備

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因此,這個設備的設備成本不高,和清洗過程不需要使用更昂貴的有機溶劑,使總體成本低于傳統濕法凈化過程;7,使用等離子體清洗,避免清洗液體運輸、存儲、放電和其他治療措施,所以生產站點很容易保持清潔和衛生;8、等離子體清洗不能治療,它可以處理各種材料、金屬、半導體、氧化物、或高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂和其他聚合物)可以使用等離子體處理。