3.電暈在COG-LCD組裝工藝中的應用在LCD的COG組裝過程中，潮州春日電暈表面處理裝置廠家將芯片IC安裝在ITO玻璃上，ITO玻璃上的引腳通過金球的壓縮變形與IC上的引腳連接。由于細線技術的不斷發展，已發展到生產螺距20μm、線10μm的產品。這些精細電路電子產品的生產和組裝，對ITO玻璃的表面清潔度要求非常高，要求良好的可焊性和牢固的焊接性。

射頻電暈清洗設備結構如圖所示4.其結構主要由反應室、電控系統、送風系統、射頻電源、真空系統、操作控制系統六部分組成。清洗過程如圖5所示。4清洗效果對比。電暈清洗在半導體清洗領域的需求很大。電暈清洗設備是貫穿半導體產業鏈的重要環節，潮州春日電暈表面處理裝置廠家用于清洗每一步原材料和半成品上可能存在的雜質，避免雜質影響成品質量和下游產品性能。它是單晶硅片制造、光刻、刻蝕、沉積、封裝工藝等關鍵工序的必要環節。

電暈脫膠劑實際上是在真空狀態下結合O2進行氧化反應，電暈表面處理機批發從而快速脫除膠體。。電暈于1879年首次被發現，1928年由朗繆爾命名為電暈。電暈是由大量帶電粒子相互作用但仍處于非束縛態組成的微觀系統，是物質除氣體、液體和固體外的第四種狀態。電暈溫度可以分別用電子溫度和離子溫度表示。低溫電暈的電離率較低，其離子溫度甚至可以與室溫相差無幾。因此，日常生發生活中有很多場景可以使用低溫電暈技能。

即電離的“氣體”，電暈表面處理機批發借助壓縮空氣，將電暈噴射到工件表面。當電暈與處理對象表面相遇時，產生一系列化學作用和物理變化，表面被清潔，碳化氫污垢，如油脂和輔助添加劑被去除。根據材料組成改變表面的分子鏈結構。

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因此，為了避免這種條紋的形成，在蝕刻底部抗反射涂層時，必須嚴格控制聚合物在層間保護層側壁上的沉積。孫武等。研究了抗反射層的刻蝕工藝參數，包括CHF3/CF4刻蝕氣體的配比、電暈功率和刻蝕時間等，結果表明，CHF3/CF4的配比越低，條紋產生越少，這是由于更多的CF4降低了刻蝕氣體的C/F比，從而減少了聚合物的產生。

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