C2烴的選擇性甲烷氧化偶聯反應以二氧化碳為氧化劑的作用下上面的十個支持過渡金屬氧化物催化劑在降序排列:Na2WO4 / Y-al2o3祝辭Cr203 / Y-Al203 Fe203 / Y-Al203>二氧化鈦/ Y-Al203> Mn203 / Y-Al203 Co203 / Y-Al203> NiO / Y-Al203>Re207/Y- a12o3 >MoO3 /Y- Al2O3。

典型的等離子體化學清洗工藝是氧等離子體清洗。等離子體產生的氧自由基非常活潑，二氧化硅plasma清潔機器簡單地與碳氫化合物反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發性物質，然后從表面去除污染物。

真空等離子體處理粉末可以改善粉末的表面性能:(1)提高粉末的著色力、遮蓋力和保色力，二氧化硅plasma清潔機器多用于涂料或涂料中。真空等離子體處理粉末涂料或油漆等離子體處理顏料涂料、染料等這些表面性能得到改善。為了提高一些顏料的遮蓋力和著色力，用一些性能較好的無機材料涂覆，如用二氧化鈦涂覆氧化鋁、二氧化硅等可以提高一些性能。

完成后，二氧化硅plasma清潔將塑料零件的油漆層切割成網格狀。接下來，標準膠帶被應用到切割網格，膠帶牢固，然后再啪的一聲斷開。如果涂層被應用到帶材上，這表明涂層沒有完全粘附。所述切割網片顯示塑料，所述網片顯示塑料強度。。三種等離子體清洗反應詳細介紹:一、化學反應等離子體清洗化學反應是利用等離子體中具有高度活性的自由基和材料表面的有機物，也稱為PE進行的。氧氣凈化是用來將不揮發的有機物轉化為揮發性物質，從而產生二氧化碳。一氧化碳和水。

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化學反應的機理是各種活性顆粒與污染物反應形成揮發性物質，再由真空泵除去。基于化學反應的等離子體清洗優點:清洗速度更高，選擇性好，更有效地去除有機污染物，缺點:表面氧化物生成。典型的等離子體化學清洗工藝是氧等離子體清洗。等離子體產生的氧自由基具有很強的活性，容易與碳氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發性物質，從而清除表面的污染物。

氬離子的優點是它是物理反應，清洗工件表面不會帶來氧化物;缺點是工件材料可能產生過度腐蝕，2)氧氧離子在反應室內與有機污染物發生反應，形成二氧化碳和水。清洗速度和更多的清洗選擇性是化學物質，所以氧離子是不允許在鉛結合應用。3)氫氫離子還原反應，去除工件表面的氧化物。為保證氫氣的安全性，建議采用氫氬混合等離子清洗。加工時間一般來說，最小加工時間是客戶達到最大生產能力的基本要求。

選擇品牌的真空等離子體清洗machineImported等離子體較早開發的清潔產品,該產品更加成熟,但是交貨時間比較長,售后維修服務不及時,產品升級緩慢,人性化設計,自動化程度和擴展應用程序不及時新款，升級版，價格也更高。國內等離子清洗市場正處于快速發展階段，各廠家的產品質量參差不齊，有的廠家缺乏基礎研究和應用知識，品牌認知度不強，不注重售后服務，一錘子銷售。等洗工件可歸納為具有物理和化學兩種功能。

8、真空等離子噴涂的解決方案:在真空中由于高能量密度等離子體表面清潔,幾乎所有粉穩定熔融階段可以被轉換成一個密集的、堅定地連接噴涂,這取決于質量的噴涂粒子的速度融化時撞到工件表面。真空等離子噴涂技術提高了現代鍍膜機的生產效率。。等離子體表面清洗機在表面工程中的應用，包括表面清洗、表面活化、消除靜電、改變表面能、提高表面潤濕性、附著力和附著力的表面制備、表面化學改性和表面處理等。

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低溫等離子體技術在處理氣態污染物方面具有明顯的優勢。其基本原理是在電場的加速作用下產生高能電子。當電子的平均能量超過目標物質的化學鍵能時，二氧化硅plasma清潔分子鍵斷裂，從而達到消除氣態污染物的目的。等離子體處理的好處有:1、在需要粘接前，清洗以改變表面張力。通過微波等離子體源，將根據工藝選擇的反應氣體O2/H2/N2/Ar等電離，然后離子等物質與表面有機污染物反應形成廢氣真空泵。待清洗物料表面清潔。