中國(guó)人在低溫等離子體清洗機(jī)等離子刻蝕機(jī)研制中的貢獻(xiàn)；&ldquo；龍的傳人&rdquo；在低溫等離子體清洗機(jī)中，特氟龍plasma刻蝕機(jī)等離子體刻蝕機(jī)在過(guò)去近半個(gè)世紀(jì)的發(fā)展中起到了重要的作用。1999年出版的《硅谷英雄》提到了兩位與低溫等離子刻蝕設(shè)備研制密切相關(guān)的中國(guó)人。一位是林大衛(wèi)博士，出生于中國(guó)廣東。1967年畢業(yè)于加拿大多倫多大學(xué)工程物理系，后在麻省理工學(xué)院獲得化學(xué)工程學(xué)士學(xué)位（1970年）和博士學(xué)位（1973年）。

利用表面等離子刻蝕機(jī)改善隱形眼鏡表面層的方法；等離子體刻蝕器已被用來(lái)處理硅樹(shù)脂透鏡的表面，特氟龍plasma表面處理機(jī)器以改善其表面性能，列舉了表面變得更親水，更耐積累，更耐磨損，或其他改進(jìn)。在硅氧烷或聚氨酯鏡片上提供保護(hù)涂層的方法是將電流光放電處理的鏡片（表面等離子體處理設(shè)備）制成等離子體，即先在碳?xì)浠衔餁夥罩刑幚礴R片，再在氧氣氣氛中處理鏡片，以增加鏡片表層的親水性。

自然形成的等離子體稱為自然等離子體（如極光、閃電等），特氟龍plasma表面處理機(jī)器人工形成的等離子體稱為實(shí)驗(yàn)室等離子體。實(shí)驗(yàn)室等離子體刻蝕機(jī)是在有限體積中形成的。等離子體刻蝕機(jī)自放電原理：利用外電場(chǎng)或高頻電場(chǎng)引導(dǎo)蒸氣，稱為蒸氣自放電。蒸汽自放電是形成等離子體的關(guān)鍵途徑之一。被外電場(chǎng)加速的部分電離蒸氣中的電子器件與中性分子結(jié)構(gòu)碰撞，將電場(chǎng)獲得的能量傳遞給蒸氣。

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可實(shí)現(xiàn)物體表面的超凈清洗、表面活化、蝕刻、光整及等離子表面涂層。根據(jù)等離子體中粒子的不同，物體處理的原理也不同。此外，輸入氣體和控制功率不同，實(shí)現(xiàn)了對(duì)象處理的多樣化。由于低溫等離子體表面處理的強(qiáng)度小于高溫等離子體，可以保護(hù)被處理物的表面，所以在應(yīng)用中多采用低溫等離子體。而各種粒子在處理物體的過(guò)程中表現(xiàn)出不同的作用，原子團(tuán)（自由基）。

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對(duì)于CVD工藝模擬，采用宏觀和微觀多層次模型模擬預(yù)測(cè)工藝和涂層的各種性能以及基體的附著力；通過(guò)模擬滲碳氮化工件的性能和應(yīng)力，人們可以更好地控制和優(yōu)化工藝。我國(guó)在這方面的研究正處于超臺(tái)階階段。2010年在表面處理方面出現(xiàn)了許多新技術(shù)、新工藝。下面慧聰小編繼續(xù)為您解讀：復(fù)合表面技術(shù)迅速崛起隨著單一表面技術(shù)的發(fā)展，綜合運(yùn)用兩種或兩種以上表面技術(shù)的復(fù)合表面技術(shù)發(fā)展迅速。

采用發(fā)射光譜原位診斷技術(shù)，分析了不同CO2添加量下等離子體清洗機(jī)CO2氧化CH響應(yīng)系統(tǒng)中甲烷響應(yīng)的活性物種。。等離子體清洗機(jī)是一種部分電離的氣體，是除固體、液體和氣體外的第四種物質(zhì)狀態(tài)。等離子體由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于等離子體中含有電子、離子和自由基等活性粒子，它們與固體表面發(fā)生反應(yīng)。其關(guān)鍵是通過(guò)激活等離子體中的活性粒子來(lái)去除工件表面的污垢。

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