現(xiàn)今生活隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)工藝技術(shù)的要求越來(lái)越高,特別是對(duì)半導(dǎo)體圓片的表面質(zhì)量要求越來(lái)越嚴(yán),其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質(zhì)沾污會(huì)嚴(yán)重影響器件的質(zhì)量和成品率,在目前的集成電路生產(chǎn)中,由于圓片表面沾污問(wèn)題,仍有5 以上的材料被損失掉。目前在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,幾乎每道工序中都需要進(jìn)行清洗...