隨著上下放電電極間距從8 mm增大到16 mm,甲烷轉化率略有峰值變化,當放電電極間距為14 mm時為30.3%；當放電距離為8 mm時，電暈機陶瓷電極工作原理為22.0%。放電距離在10～16毫米之間的變化對CO2的轉化率影響不大。僅在放電距離為8 mm時，CO2轉化率為21.8%。

根據電極或器件壁電位與電暈電位的關系，電暈機陶瓷電極工作原理可分為離子鞘層和電子鞘層。電極附近鞘層：設電暈電位為Vp，電極電位為Vs。當電極電位Vs與電暈電位Vp之差均為1時，就會接通外部電路，電極中流過電流，相當于引入一個外部電位作用于電暈。當VsNe)。隨著電場的增大，在離電極一定距離內會形成由離子組成的空間電荷層，即離子鞘層。

電暈清洗/蝕刻機的裝置是將兩個電極布置在密封的容器中形成電場，電暈機陶瓷電極距離用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離以及分子或離子的自由運動距離越來越長，在電場的作用下，碰撞形成電暈，這些離子具有很高的活性，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面上引起化學反應。不同氣體的電暈具有不同的化學性質。

真空電暈處理原理；電暈是物質存在的一種狀態。通常情況下，電暈機陶瓷電極距離物質以固態、液態和氣態三種狀態存在，但在某些特殊情況下，還存在第四種狀態，比如地球大氣中電離層中的物質。處于電暈狀態的物質有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應的分子、原子等，但物質作為一個整體保持電中性。

電暈機陶瓷電極距離

電暈材料粘接機電暈材料粘接機原理通過射頻電源在一定壓力下產生高能無序電暈，用電暈轟擊清洗后的產品表面，達到光刻膠清洗、改性、灰化的目的。電暈材料粘接機的應用范圍：主要針對材料的表面處理，可根據需要實現物理變化和化學響應。

電暈原理--表面活化與清洗電暈包括原子、分子、離子、電子、活性基團、激發原子、活化分子和自由基等。

在射頻電場作用下，會形成垂直于晶圓方向的自偏壓，使離子得到比較大的轟擊能量。在電容中在耦合電暈階段開始時只有一個射頻電源，射頻電源的變化會同時影響電暈密度和離子轟擊能量，單頻容性耦合電暈的可控性不盡如人意。多頻電容耦合電暈刻蝕機通過引入多頻外接電源，使電容耦合電暈刻蝕機的性能有了很大的提高。對于多頻外加電場，高頻電場主要控制電暈密度，低頻電場主要控制離子表面撞擊能。

電暈與物體表面的化學反應可以產生活性化學基團，這些化學基團具有很高的活性，因此可用于廣泛的領域，如提高材料表面的粘附能力，提高焊接能力、結合、親水性等諸多方面。同時，這些特性已完美應用于生物、醫療、手機、LED、半導體、光纖、汽車、零部件制造等行業。不僅提高了產品的質量，而且大大增加了產品的耐久性。。在半導體封裝工業中，包括集成電路、分立器件、傳感器和光電封裝等，通常使用銅引線框架。

電暈機陶瓷電極工作原理

經氬電暈處理后，電暈機陶瓷電極距離表面張力將明顯提高。活性氣體研究所產生的電暈也能增加表面粗糙度，但氬離子電離后產生的顆粒相對較重，氬離子在電場作用下的動能會顯著高于活性氣體，因此其粗化效果會更加明顯，廣泛應用于無機基底的表面粗化過程。如玻璃基板表面處理、金屬基板表面處理等。③主動氣體輔助在電暈的活化清洗過程中，常采用工藝氣體混合以達到較好的效果。

電暈中有正負電荷、亞穩態分子和原子。另一方面，電暈機陶瓷電極距離當各種活性顆粒在被清洗物體表面相互接觸時，各種活性顆粒會與物體表面雜質的污垢發生反應，形成揮發性氣體等物質，從而將揮發性物質抽入真空泵。例如，ROS電暈氧化材料表面的有機物質。相反，各種活性顆粒會轟擊清潔材料表面，使污染在材料表面的雜質隨真空泵的氣流被吸走。