雖然可以產生典型的大體積強激發低溫等離子體，附著力促進劑硅烷但其工作壓力太低，難以在工業應用中連續生產，應用成本高。目前主要用于半導體行業的清洗。射頻plasma等離子體清洗機：射頻放電通常在低壓下操作，也可以在常壓甚至加壓下操作，其特點是放電氣體不與電極接觸。射頻放電是利用高頻電場將反應器中的氣體放電，通過電感或電容突變產生等離子體。

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根據所用氣體的化學性質，環氧基團附著力促進劑用法可分為非活性氣體等離子體和非活性氣體等離子體，非活性氣體如氬氣(Ar)、氮氣(N2)、氟化氮(NF3)、四氟化氮(CF4)、活性氣體和氧氣(O2)、氫氣(H2)等。在清洗過程中，不同類型氣體的反應機理是不同的。活性氣體等離子體具有很強的化學反應性。以上就是小編從兩個方面對等離子的介紹，希望能給朋友們更好的了解。。

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