4.取2pcs顯示OK的產品，uv絲印附著力國標在同一位置裸露的ITO上沾上汗漬（不戴手套，直接戴手指套，約15分鐘后手指套內的汗漬），將其中1pcs進行Plasma清洗，然后產品一起通電，觀察腐蝕狀況（車間溫度管控范圍:22℃+/-6℃，濕度控制范圍55％+/-15％）。 產品A經過等離子清洗；產品B不進行等離子清洗。
適用范圍廣:無論基片類型的加工對象，uv絲印附著力國標均可加工，如金屬、半導體、氧化物及大部分高分子材料均可加工;低溫:接近常溫，特別適用于高分子材料，比電暈和火焰法具有更長的貯存時間和更高的表面張力。功能強:只涉及高分子材料(10-0A)的淺層表面，在保持材料自身特性的同時，可賦予一種或多種新的功能;成本低:設備簡單，操作維護方便，連續操作，往往幾瓶氣體就可以替代數千公斤的清洗液，因此清洗成本將大大低于濕法清洗。
Ar + 撞擊污垢形成揮發性污垢，uv絲印附著力國標避免表面材料發生反應；另一方面，使用氬氣容易形成可變穩定原子，然后與氧和氫分子碰撞，產生電荷轉換并重新結合形成氧和氫活性原子。它作用于物體的表面。官能團介紹：高分子材料用N2、NH3、O2、SO對2等氣體進行等離子處理可以改變表面的化學成分，并引入相應的新官能團（-NH2、-OH、-COOH、-SO3H等）。
等離子清洗是剝離式清洗等離子清洗的特點是清洗之后對環境無污染。在線式等離子清洗設備是在成熟的等離子體清洗工藝技術和設備制造基礎上增加上下料、物料傳輸等自動化功能。針對IC封裝中引線框架.上點膠裝片、芯片鍵合及塑封等工藝前清洗大大提高粘接及鍵合強度等性能的同時,避免人為因素長時間接觸引線框架而導致的二次污染以及腔體式批量清洗時間長有可能造成的芯片損傷。
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這時，如果真空泵的末端殘留油或氣，由于真空室內的負壓，會被吸入真空室內，從而污染真空室內的產品。這是因為低壓等離子裝置的高真空氣動擋板閥在報警停止后自然關閉，但此時真空室仍處于高真空狀態，由高真空轉為真空。泵端處于常壓狀態，即為壓差。是的，如果此時點擊啟動按鈕，高真空氣動擋板閥將打開，油氣會被吸回并污染真空室。污染產品。
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