同時，薄膜電暈處理工藝該技術具有反應速度快、作用時間短、材料物理力學性能損失小、改性效果多樣等優點，因此具有廣闊的應用前景。低溫電暈作為一種無損表面處理技術，在高分子薄膜材料和纖維材料的表面處理方面顯示出明顯的優勢。通過低溫電暈表面處理，可以在處理后的基底表面產生活性官能團，增加表面活性。

電暈專門用于各種材料的表面改性：表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合和電暈輔助化學氣相沉積。電暈的具體應用1.金屬表面和氧化層的油脂、油污等有機物可以去除。2.汽車制造過程中使用的塑料和涂裝的預處理。3.電暈專門應用于紡織品、濾網、膜的親水、疏水及表面改性處理。4.電暈用于電子行業電路板的清洗和蝕刻。薄膜、PP等材料。無氧化活化處理，薄膜電暈處理工藝提高可焊性。

活性氧（活性原子氧）能迅速將聚酰亞胺薄膜氧化成揮發性氣體，在薄膜電暈處理工藝過程中通過機械泵抽走，從而將聚酰亞胺薄膜從硅片上去除。電暈脫膠具有脫膠操作簡單、脫膠效率高、表面清潔光滑、無劃痕、成本低、環保等優點。介質電暈刻蝕設備一般采用電容耦合電暈平行板反應器。在平行電極反應器中，反應離子刻蝕腔采用小陰極面積和大陽極面積的非對稱設計，刻蝕材料放置在面積較小的電極上。

吸附的分子隨后通過離子或自由基聚合在表面交聯，在薄膜電暈處理工藝過程中形成薄膜。在薄膜形成過程中，新形成的表面原子和分子會受到電暈中氣相群和電磁輻射的轟擊。經典聚合物具有活性結構，如承諾相互結合的雙鍵。甲基丙烯酸甲酯的雙鍵為聚甲基丙烯酸甲酯的形成提供了一個位點，聚甲基丙烯酸甲酯是可聚合分子在電暈處理條件下形成聚合物的一個眾所周知的例子。電暈技術還可以利用傳統化學方法無法聚合的材料形成聚合物。

薄膜電暈處理工藝

根據CAM產生的Gerber數據，通過CCD精確圖形定位，將特定的logo或阻焊油墨噴涂在電路板上，通過UVLED光源瞬間固化，完成PCB logo或阻焊油的打印過程。噴墨打印工藝和設備的主要優點：01產品可追溯性a)滿足精益生產控制要求，具有唯一的流水號和二維碼逐板或批量追溯，B)可實現實時在線添加識別碼、讀取板邊碼、生成流水號、二維碼等，并實時打印。

電暈表面活化；聚四氟乙烯(PTFE)材料主要用于微波面板。一般FR-4多層板孔的金屬化工藝并不實用，這主要是由于化學沉積銅之前的活化過程。目前濕法處理方法是用萘鈉絡合處理液蝕刻氣孔中PTFE的表面原子，使氣孔濕潤；墻的用途。其難點在于合成困難、毒性大、處理液貯存期短。電暈處理是很好地解決這些問題的干法工藝。電暈去除殘留物：在印刷電路板制造的某些工序中，電暈是去除非金屬殘留物的良好選擇。

電暈處理汽車發動機油封片柴油機曲軸油封作為避免漏油的關鍵部件，越來越受到柴油機制造企業的重視。聚四氟乙烯具有耐熱、耐腐蝕、不粘、自潤滑、介電性能優異、摩擦阻力小等特點，長期以來一直是目前制作骨架密封片的主要原材料之一。但未經固溶處理的PTFE表面活性很差，與金屬材料的粘接非常困難。傳統的加工工藝是用鈉萘水溶液解決表層以提高其粘附能，但會在PTFE表層產生針孔和偏色，改變PTFE原有特性。

電暈清洗劑在LCD-COG液晶組裝工藝中的應用在LCD的COG組裝過程中，將芯片IC安裝在ITO玻璃上，ITO玻璃上的引腳通過金球的壓縮變形與IC上的引腳連接。由于細線技術的不斷發展，已發展到生產螺距20μm、線10μm的產品。這些精細電路電子產品的生產和組裝，對ITO玻璃的表面清潔度要求非常高，要求良好的可焊性和牢固的焊接性。

在薄膜電暈處理工藝過程中

&mdash；電暈表面治療儀在表面處理過程中，薄膜電暈處理工藝在放電蒸氣中加入化學反應蒸氣，在活化材料表面發生復雜的化學反應。該工藝能在材料表面產生新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，它們是一些能顯著提高材料表面活性的活性基團。電暈表面處理儀器具有大量的離子、激發態分子和許多活性粒子，如自由基等，會作用于樣品表面，并能去除樣品表面原有的污染物和雜質。

真空（低壓）電暈(電暈)是一種依靠處于“電暈狀態”的物質的“活化效應”，在薄膜電暈處理工藝過程中即電暈活化，去除物體外部污漬的清洗設備。這是歸因于電子行業的干洗。在此過程中，需要真空泵制造一定的真空條件，以滿足清洗的需要。電暈清洗所需電暈主要在真空、放電等特殊場合通過特定氣體分子，如低壓氣體輝光電暈。