電漿中微粒的能量通常在幾到數十電子伏特，低溫等離子體活化水發生裝置比高聚物材質的結合鍵能更好地破壞有機高分子化合物的離子鍵，從而形成新的鍵；但遠小于較高能放射性射線，只涉及材質表層，不影響基體的性能。在低溫等離子中，處于非熱力學平衡狀態的電子具有很高的能量，能破壞材質表層分子的離子鍵，使微粒的化學反應活性增加(比熱低溫等離子更大)，而中性化顆粒溫度接近室溫，這為熱敏性高聚物高聚物表層改性提供了合適的條件。

等離子體是與固體、液體和氣體處于同一水平的物質存在形式，低溫等離子體活化水發生裝置也稱為物質第四態。它是一個由大量帶電粒子（電子和離子）組成的具有宏觀時空尺度的系統。等離子體可分為高溫等離子體和低溫等離子體。冷等離子體又稱非平衡等離子體，是在低壓下通過直流輝光放電形成的，電子溫度較高（1-10ev），離子溫度較低（≤0.1ev）。等離子體一般是電中性的，因為它由帶電粒子、中性粒子和光子組成，帶正電粒子和帶負電粒子的總量相等。

(3)流經 -低溫等離子發生器后，天津實驗室低溫等離子表面處理機性能分率、上染率變化顯著。引起纖維表面交聯氧化、降解等反應，形成表面層。分子鏈結構的改變，還可以使染料對某些物質產生結合。力基團，形成染座，從而使染料上染率提高。低溫度等離子體提高纖維染色性能，增加聚酯織物染色深度。

這種裝置可以認為是非熱力平衡態冷等離子體射流所用裝置的前身。非熱力平衡態冷等離子體射流由于其消耗的平均功率非常小，天津實驗室低溫等離子表面處理機性能所產生的等離子體射流對環境以及被處理材料表面幾乎沒有什么熱效應，因此可以將其稱為“冷等離子體射流”。

低溫等離子體活化水發生裝置

..連接半導體、航空航天技術、精密機械、它在汽車行業、醫療、塑料、印刷、LCD、電子電路、電信、手機零部件等行業有著廣泛的應用。。加工超細AP粉體的低溫等離子發生器技術：低溫等離子發生器技術成功對超細AP粉體進行表面處理，增強親水性，改善聚集現象，獲得超細AP粉體。穩定分離細粉。超細AP顆粒通過表面等離子體處理裝置進行表面等離子體處理，以提高顆粒的聚集性能。

等離子裝置在密閉容器中安裝兩個電極以產生電場，并使用真空泵達到一定的真空度。在電場的作用下，它們碰撞形成等離子體并發光。之所以稱為輝光放電處理，是因為它在此時釋放。輝光放電時的氣體壓力對數據處理效果的影響很大，其他因素與放電功率、氣體成分和流速、材料類型有關。各種放電方法、工作材料條件以及以上對等離子體的影響由機體產生的元件可以相互組合，形成各種等離子處理裝置。。

因此，基板必須具有高玻璃化轉變溫度rS（約175-230°C）、高尺寸穩定性、低吸濕性以及優異的電性能和高可靠性。此外，它在金屬膜、絕緣層和基板電介質之間具有高附著力。 1.在線等離子清洗設備中引線連接的PBGA封裝工藝（1）極薄（12-18μm厚）銅箔采用BT樹脂/玻璃芯板，鉆孔金屬化。使用傳統的 PCB Plus 3232 工藝在電路板的兩面制造帶有焊球的導電條、電極和焊盤陣列。

環氧樹脂樣初始累積電荷量隨氟化時間的延長而降低(低)，且閃絡電壓表現出先上升后降低(低)的規律，當對填料氟化45min時，閃絡電壓提(升)很明(顯)，較未氟化填料(升)(低)。plasma填充劑處理提(升)環氧樹脂電性能的可行性，高(效)穩定、性能提升(升)明(顯)，為AlN和其它填料的改性提供了新的研究思路。

天津實驗室低溫等離子表面處理機性能

這樣可以去除有機污染，天津實驗室低溫等離子表面處理機性能顯著提高涂層質量。。玻璃基板：使用等離子技術沖擊材料表面，可以有效去除表面污染物，顯著提高工件的表面親水性。清洗后水滴的角度小于5度，是下一道工序的基礎。陽極表面改性：通過等離子體技術對ITO陽極進行表面改性，有效優化了其表面化學成分，顯著降低了薄層電阻，從而有效提高了能量轉換效率，提高了器件的光伏性能。保護膜預處理：硅片的表面非常明亮，會反射大量的陽光。